韓美日開會商定加深創新技術保護合作

韓聯社首爾、華盛頓4月26日電 韓美日三國政府25日（當地時間）在華盛頓舉行“第一次韓美日創新技術保護網路高級會議”，商定為防止半導體、人工智慧和生物等高新技術外泄，保障出口限制措施到位，而加深工作層合作。

據南韓法務部和產業通商資源部（下稱產業部）當天消息，三方一致認為違反各國出口限制措施的行為威脅國家安全，並達成了上述共識。

法務部、美國司法部和日本警察廳簽署了執行涉技術洩露法律的合作意向書，產業部、美國商務部和日本經濟產業省簽署了涉落實出口限制措施的合作意向書。由此，三方將更為積極分享技術保護、落實出口限制措施方面資訊及模範案例。

韓美日創新技術保護網路協商機制是去年8月韓美日戴維營峰會的後續措施。三國首腦當時商定，進一步加深技術保護合作，以防三國研發的尖端技術外泄。三方還決定，美國防技術洩露機構——“顛覆性技術打擊小組”將與韓日對口部門構建溝通渠道。（完）

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