涉嫌泄密SK海力士前中國員工二審被加刑改判5年

韓聯社水原5月7日電 曾供職于SK海力士的中國籍員工A某（37歲）涉嫌洩露晶片核心技術案二審7日宣判，法院推翻原判，判處A某有期徒刑5年，罰金3000萬韓元（約合人民幣15.4萬元）。

水原高等法院刑事審判第2-1庭當天就上述案件宣判，推翻一審判決，即有期徒刑1年6個月、罰金2000萬韓元，做出上述判決。法院認為，被告人在跳槽至SK海力士競爭公司的過程中，擅自洩露包含SK海力士通過長期研發獲得的晶片研究成果和機密的文件。該資料具有高度的技術和經濟價值，可被視為國家核心技術資料，還包含對國家和社會產生巨大影響力的商業秘密。

法院指出，這些犯罪行為導致國家核心技術和商業秘密外泄，致使受害企業和國家蒙受難以估量的財產損失，嚴重威脅本土企業生存的基礎，給國家產業競爭力產生負面影響。

據悉，A某2013年入職SK海力士，負責分析晶片設計和不良問題，2020年至2022年被派調至中國法人，負責企業客戶諮詢。A某2022年跳槽至華為，離職之前用A4紙列印出有關解決晶片工藝問題的4000多張資料。（完）

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